高精度研磨抛光机
精密研磨抛光耗材

磨抛耗材主要包括:

研磨抛光盘、修盘块、夹具、研磨粉、抛光布、抛光液、粘结蜡、去蜡液等等

可根据用户需求定制,并提供更长的保修期服务!


研磨粉

氧化铝粉产品特点

晶相稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀;

磨削力强、光度亮、镜面效果好;

产品参数

平均粒度:0.05-20um可选

晶型:a相

含量:>99.62%

外观:白色粉末

我们还可以提供碳化硅粉,碳化硼粉,氧化铈粉等多种材质的研磨粉

抛光布

抛光垫产品特点

抛光垫片可以对陶瓷、砷化镓、磷化铟、玻璃硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石晶片、碳化硅晶片等材质或工件的精细抛光。

材质:聚氨酯、合成纤维等多种材质。也可定制含有氧化铈,氧化锆等材料的抛光布。

产品参数

尺寸:圆形片,最大直径1420mm,更多尺寸规格可定制。

厚度:0.8-2.0mm,更多厚度规格可定制。

深加工:可针对适用之项目制作不同尺寸形状,制作部沟、方格槽、螺纹沟槽。可提供前PT耐酸碱AB双面胶(无残留胶)。

抛光液

高精度抛光专用二氧化硅抛光液

适用范围

硅片,陶瓷片,蓝宝石,碲锌镉,碲镉汞等类似材料的高精度抛光。

产品参数

型号Producttype:GMC/SP201

外观Appearance:不透明Opaque

PH:(AtG/1H2O)5.0-10.1

沸点Boilingpoint:100℃

含量分析TypicalAnalysis:

甲酫Formaldehyde:<1.0%;

乙二醇Ethyleneglycol:4-5%

二氧化硅Amorphoussilica:15-50%

 

蓝宝石和陶瓷专用二氧化硅抛光液

适用范围

蓝宝石,氧化锆,氧化铝陶瓷等类似材料的高精度抛光。

产品参数

粒径:80-130nm

密度:1.20-1.29g/ml

PH值:10.5,10.7

粘度:≤10c.p.


化学抛光液

适用范围

砷化镓,碲锌镉,碲镉汞等类似材料的高精度抛光。

产品参数

型号Producttype:GMC/DP500

外观Appearancecolourless:

白悬浮Whitesuspension

PH:11.4

沸点Boilingpoint:100℃

含量分析TypicalAnalysis:

次氯酸钠Sodiumhypochlorite:7-8%

氧化铝Aluminiumoxide:8-10%

 

金刚石研磨抛光液

适用范围

蓝宝石,硅片等类似材料的高精度抛光。

产品参数

单晶金刚石研磨液

多晶金刚石研磨液

粒径:0.1-100um可选

介质:水性,油性



粘结蜡

主要适用于光学玻璃,蓝宝石,水晶,半导体材料硅片,锗片,碳化硅,铌酸锂,钽酸锂,金属、陶瓷抛光中的粘片工艺。

产品型号Producttype:GMC/DL01

描述Description:

合成蜡棕褐色中等硬度

Tancoloured,mediumhardsyntheticwax

熔点MeltingPoint:157-162℃

清洗溶剂SuitableSolvents:

热三氯乙烷Hottrichloroethane

三氯乙烯Trichloroethylene

产品特点

黏合力强,熔点高,质量稳定,易清洗,

无毒,不污染环境,属于环保型产品。

产品型号Producttype:GMC/DL02

描述Description:石蜡Paraffinwax

熔点MeltingPoint:56-57℃

清洗溶剂SuitableSolvents:

氯化溶剂Chlorinatedsolvents

丙酮Acetone

产品特点

黏合力强,在低温下即可溶解,短时间内即可凝固。


去蜡液

产品型号Producttype:GMC/PL100

外观Appearance:

无色Colourless,液体Mobilefluid

PH:中性(水基体系)

Neutral(aqueousextraction)

沸点Boilingpoint:350℉

闪点Flashpoint:118℉TCC(44℃)

粘度Viscosity(cps):6

折射率RefractiveIndex:1.47

含水率Watercontent(ppm):<50

 产品特点

植物萃取,更加环保,没有毒性,对人没有伤害,是一种环保高效的去蜡清洗产品。具有除蜡快速彻底,水洗性能好等特点。

 

 

 


研磨粉

氧化铝粉产品特点

晶相稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀;

磨削力强、光度亮、镜面效果好;

产品参数

平均粒度:0.05-20um可选

晶型:a相

含量:>99.62%

外观:白色粉末

我们还可以提供碳化硅粉,碳化硼粉,氧化铈粉等多种材质的研磨粉


抛光布

抛光垫产品特点

抛光垫片可以对陶瓷、砷化镓、磷化铟、玻璃硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石晶片、碳化硅晶片等材质或工件的精细抛光。

材质:聚氨酯、合成纤维等多种材质。也可定制含有氧化铈,氧化锆等材料的抛光布。

产品参数

尺寸:圆形片,最大直径1420mm,更多尺寸规格可定制。

厚度:0.8-2.0mm,更多厚度规格可定制。

深加工:可针对适用之项目制作不同尺寸形状,制作部沟、方格槽、螺纹沟槽。可提供前PT耐酸碱AB双面胶(无残留胶)。

 

抛光液

高精度抛光专用二氧化硅抛光液

适用范围

硅片,陶瓷片,蓝宝石,碲锌镉,碲镉汞等类似材料的高精度抛光。

产品参数

型号Producttype:GMC/SP201

外观Appearance:不透明Opaque

PH:(AtG/1H2O)5.0-10.1

沸点Boilingpoint:100℃

含量分析TypicalAnalysis:

甲酫Formaldehyde:<1.0%;

乙二醇Ethyleneglycol:4-5%

二氧化硅Amorphoussilica:15-50%

 

蓝宝石和陶瓷专用二氧化硅抛光液

适用范围

蓝宝石,氧化锆,氧化铝陶瓷等类似材料的高精度抛光。

产品参数

粒径:80-130nm

密度:1.20-1.29g/ml

PH值:10.5,10.7

粘度:≤10c.p.


化学抛光液

适用范围

砷化镓,碲锌镉,碲镉汞等类似材料的高精度抛光。

产品参数

型号Producttype:GMC/DP500

外观Appearancecolourless:

白悬浮Whitesuspension

PH:11.4

沸点Boilingpoint:100℃

含量分析TypicalAnalysis:

次氯酸钠Sodiumhypochlorite:7-8%

氧化铝Aluminiumoxide:8-10%

 

金刚石研磨抛光液

适用范围

蓝宝石,硅片等类似材料的高精度抛光。

产品参数

单晶金刚石研磨液

多晶金刚石研磨液

粒径:0.1-100um可选

介质:水性,油性



粘结蜡

主要适用于光学玻璃,蓝宝石,水晶,半导体材料硅片,锗片,碳化硅,铌酸锂,钽酸锂,金属、陶瓷抛光中的粘片工艺。

产品型号Producttype:GMC/DL01

描述Description:

合成蜡棕褐色中等硬度

Tancoloured,mediumhardsyntheticwax

熔点MeltingPoint:157-162℃

清洗溶剂SuitableSolvents:

热三氯乙烷Hottrichloroethane

三氯乙烯Trichloroethylene

产品特点

黏合力强,熔点高,质量稳定,易清洗,

无毒,不污染环境,属于环保型产品。

产品型号Producttype:GMC/DL02

描述Description:石蜡Paraffinwax

熔点MeltingPoint:56-57℃

清洗溶剂SuitableSolvents:

氯化溶剂Chlorinatedsolvents

丙酮Acetone

产品特点

黏合力强,在低温下即可溶解,短时间内即可凝固。

去蜡液

产品型号Producttype:GMC/PL100

外观Appearance:

无色Colourless,液体Mobilefluid

PH:中性(水基体系)

Neutral(aqueousextraction)

沸点Boilingpoint:350℉

闪点Flashpoint:118℉TCC(44℃)

粘度Viscosity(cps):6

折射率RefractiveIndex:1.47

含水率Watercontent(ppm):<50

 产品特点

植物萃取,更加环保,没有毒性,对人没有伤害,是一种环保高效的去蜡清洗产品。具有除蜡快速彻底,水洗性能好等特点。

可根据用户需求定制,并提供更长的保修期服务!更多资料详询我司技术部门!