高精度研磨抛光机
GNAD系列精密研磨抛光设备GNAD420

GNAD系列高精度研磨抛光设备是MCF公司研制的覆盖半导体材料,光电材料磨抛等多数应用领域的最新一代磨抛机。主要适用的材料包括:硅,砷化镓,铌酸锂,光纤,碳化硅,蓝宝石,碲锌镉等多种材料。GNAD系列磨抛设备包括GNAD61,GNAD420及GNAD620三个系列型号磨抛机。

设备特点:

独立远程操控系统,强腐蚀化学抛光过程实现人机分离远程操控。

可在一个控制终端实现多机联控

在线实时监控磨盘面形变化

在线实时磨抛盘温控及冷却功能

多通道进料系统

摄像系统实时监控磨抛工艺过程

磨抛盘自动冲洗功能

可根据用户需求定制,并提供更长的保修期服务!

1、GNAD系列精密研磨抛光机,主机及所有的零备件均采用高防腐蚀材料,整机防腐,适用于多种半导体材料的化学机械研磨抛光。GNAD系列设备可加工标准形状及不同非标准形状尺寸的样片。设备可加工样品尺寸范围为1-8英寸样片。

2、GNAD系列设备的功能参数,可由独立的远程操控系统控制。控制系统可根据用户工艺要求选择独立于设备主机的距离,这个配置既提高了化学工艺过程中对操作人员健康安全的保护等级,也方便了工艺过程中更改工艺参数的操作,更是避免了磨抛过程中产生的磨抛液废料腐蚀操作控制系统。

3、GNAD系列设备的功能参数,可由独立的远程操控系统控制。控制系统可根据用户工艺要求选择独立于设备主机的距离,这个配置既提高了化学工艺对操作人员健康安全的保护等级,也方便了工艺过程中更改设备参数的操作,更避免了磨抛过程中产生的磨抛液废料腐蚀操作控制系统。

4、GNAD系列具有实时在线监测工艺过程中磨抛盘面形的功能,并可实时在线修整磨抛盘的面型。盘面形控制精度1um。

5、GNAD系列磨抛机具有实时在线监控磨抛盘温度变化和冷却功能。盘温接近预设温度警戒值,设备会自动启动冷却功能,保持磨抛盘在工艺要求的温度范围内运转工作。

6、研磨抛光盘运行由驱动部分控制,盘的转速可从每分钟0转到每分钟120转,这个速度变化范围有效保证磨抛不同硬度和大小材料样品的速率,从而实现更高的工艺指标。研磨盘与抛光盘的更换简单快捷,嵌入式盘, 使得设备能非常快速的从研磨工艺转到抛光工艺,大幅缩短工艺时间。

7、GNAD61设备主机配有真空系统和自动填料系统等相关组件。

真空系统通过抽真空的方式将样品直接吸附在样品固定装置底面。根据不同工艺要求,真空系统可以直接吸附样品或者直接吸附贴有样品的玻璃基板。

自动填料系统可根据不同的工艺要求,调整滴料速度,并在研磨料用完同时自动停机,以防止没有研磨料时对样品产生的损伤。

设备可支持双多通道进料系统同时工作,实现化学研磨抛光等各种复杂的工艺。 

8、 GNAD系列设备的摆臂配置样品水平转动驱动系统,大大提升了磨抛效率的同时,也更好的控制样品平整度。摆臂控制样品驱动系统的摆幅范围可以实现0-100%。这一功能设计,可以保证设备在研磨抛光过程中,实现样品的全摆动抛光,大大提升了设备的抛光产能及效率。

9、夹具配有独立的数字显示表头,可在线监测样品的去除量,精度可实现1um.压力的范围可实现0-10公斤。并可根据用户工艺要求定制各种角度附件等非标夹具附件,实现对非标形状样品的抛光及角度抛光。

10、GNAD系列设备具有设备定时功能,可连续工作运行时间10小时。同时,设备具有预设工作时间功能,预设时间达到,设备自动停机,大大提升了设备的自动化功能的同时也极大提升了工艺标准化操作。

11、GNAD系列设备具有自动清洗功能。根据工艺要求,GNAD可实时在线冲洗磨抛工作区域。流速,清洗时间等参数可精确数控。

12、GNAD系列设备根据不同材料的工艺要求,可搭载铸铁盘,聚氨酯盘,玻璃盘,铜盘,锡盘及贴抛光布专用的抛光盘等多种材质的磨抛盘。


磨抛盘转速 0-120rpm
磨抛盘直径:300mm, 380mm,420mm,600mm etc.
GNAD420:3个工作站,可最大兼容3个6英寸样片
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