等离子清洗机
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CMS低温等离子系列 CM/030等离子清洗机

原理:等离子体其中包括原子、分子、离子、电子、活性基团、激发态原子、活化的分子及自由基,这些粒子的能量和活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的表面引起化学反应,从而有些化学键被打开后结合上氧原子等高活性的物质,使得材料表面亲水性得到极大提高,同时对材料表面的油污等有机大分子新的化学反应,生成气态小分子,例如二氧化碳,水气等气态物质被真空泵抽走,从而达到对材料表面分子级别的清洗。在粘接/bonding/印刷/镀膜/封装等工序时让产品可靠性更高,良品率更好。
产品特点:
1.任何材质、形状、尺寸都可以处理;                     
2.高效均匀的处理效果;
3.自主研发的操作系统,简洁智能;
4.处理气体多为氧气、氩气、氮气、氢气或混合气体;
5.较低的处理温度,不存在热损伤和热氧化问题;
6.使用成本低、耗损小;
7.安装与维护简单。

产品品牌:
MCF
产品型号:
低温等离子清洗
CM/030 Plasma cleaner
产品功能:
表面清洗、活化、涂镀、刻蚀
产品应用范围:
PCB 清洁             光学玻璃表面清洁/活化           传感器 MEMS                半导体微电子
电子元器件          助听器/耳机/扬声器                  聚合物涂覆                    航空航天
封装预处理          消费电子类                              去除有机物                     硅片键合
PET-薄膜             ITO 玻璃                                  LED 封装                       高分子材料
生物医疗              硅片去胶                                  镀保护层

射频发生器:40KHz/13.56MHz;0-1000W
清洗舱规格:W300mm;H300;L370mm;
清洗舱有效容积:大约 30L                                                 
气体流量计:浮子流量计                                                    
极限真空度:20Pa 或更低                                                   
控制系统:PLC+10”触屏自动控制
工艺气体接口:I.D 4mm,O.D 6mm
整机供电:220V/8A                                                 
整机尺寸:W800mm;H1600mm;D850mm
配套附件:真空泵一台,波纹管一条
可根据用户需求定制,并提供更长的保修期服务。获取更多等离子清洗机技术资料或支持请联系我们!